研析虛線對解釋申請專利之設計的影響-以美國iPhone設計專利單方再審查案為中心
2011 年間,美商蘋果電腦公司以其著名的智慧型手機之相關專利向韓國三星電子公司發動侵權訴訟,雖然三星公司在民事判決中被認定侵權,但其同時透過行政救濟程序,向美國專利商標局提出單方再審查,2015 年 8 月美國專利商標局首先針對一件設計專利單方再審查案作出專利無效之決定。本文就該案進行探討,分析內容包括部分設計「解釋申請專利範圍」以及「判斷是否導入新事項」等兩項議題,最末筆者提出個人淺見,認為部分設計中之虛線不論係作為界定內部邊界或外部邊界,亦或係用於表示環境,其所呈現的外觀不應屬於申請專利之設計的內容;而有關導入新事項的判斷,應係判斷後申請案的設計是否已揭露於先申請案所揭露的內容中,而非以後申請案所主張的範圍是否與先申請案的範圍相同為判斷準則,否則將失去了「先申請原則」下鼓勵申請人就其已完成之創作儘早提出申請之意義。
- 相關連結: https://www.tipo.gov.tw/tw/dl-17562-66bedadecc8243c7bc8bd0ba586cc420.html
- 智慧財產局刊登日期: 106.5
- 本網站刊登日期: 6/8/2017
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