暫時接著積層體及應用彼之晶圓薄化製備方法
專利資料
專利公告號 I783530 公告日 西元 2022 11 11
發明/創作名稱 暫時接著積層體及應用彼之晶圓薄化製備方法
英文專利名稱 TEMPORARILY BONDING LAMINATED BODY AND APPLICATION OF WAFER THINNING PREPARATION METHOD
申請號 110122269 申請日 西元 2021 6 18
證書號 I783530 專利權到期日 西元 2041 6 17
專利類型 發明 公報卷/期 輯 / 第49 卷 / 第32
國際分類號 H01L 21/302(2006.01); C09J 5/08(2006.01); C09J 7/30(2018.01) 產業別 半導體類
專利特點概述
本發明涉及一種暫時接著積層體及應用彼之晶圓薄化製備方法,該暫時接著積層體係於一薄膜層兩側表面分設有一熱塑膨脹層,其應用於一晶圓之薄化,其製備方法包含有提供一載體;將至少一暫時接著積層體結合於該載體上;執行一晶圓結合於暫時接著積層體上;執行一晶圓壓合;執行至少一薄化技術於該晶圓上;以及提供一熱源移除該暫時接著積層體而將該晶圓自該載體上分離,藉此,使得該晶圓於進行薄化時具有良好的支撐與緩衝,可確保該晶圓在薄化或製程中不致破裂,同時應用暫時接著積層體中熱塑膨脹層受熱膨脹的特性,使得該熱塑膨脹層不和晶圓與載體黏在一起,可減少載體及晶圓後續殘膠之處理。
發明圖式/照片
圖例1-暫時接著積層體及應用彼之晶圓薄化製備方法
聯絡人資料
發明人姓名 李志雄
專利權人姓名 李志雄
專利權人住址 桃園市桃園區經國路304號7樓
合作開發方式